Китайская компания Prinano, известная также как PuLin Technology, совершила значительный прорыв в области наноимпринтной литографии, поставив своему первому заказчику в области производства чипов собственноручно разработанный наноимпринтный литограф модели PL-SR. Эта система представляет собой важный шаг вперёд для отечественной микроэлектронной индустрии, потому что до этого момента подобное оборудование было доступно лишь у нескольких ведущих мировых производителей, таких как Canon. במה?> Важный момент заключается в том, что Prinano стала второй компанией после Canon, которая смогла реализовать поставку наноимпринтного литографа для коммерческого использования в производстве. Это свидетельствует не только о технологическом прогрессе Китая, но и о повышении уровня самостоятельных разработок в области нанотехнологий и полупроводникового машиностроения.
Главной особенностью системы PL-SR является её способность поддерживать ширину линий менее 10 нанометров. Это особенно важно, поскольку в индустрии полупроводников современность производства определяется именно минимальной шириной транзисторных элементов. Для сравнения, классическая литография Canon FPA-1200NZ2C может создавать схемы с минимальной шириной линий около 14 нанометров. Также стоит отметить, что хотя заявленная возможность производства чипов на 5-нанометровом техпроцессе есть в документации Prinano, это не обязательно означает, что она полностью соответствует требованиям для передовых логических элементов и микросхем.
Одним из главных преимуществ наноимпринтной литографии является отсутствие необходимости использования источников экстремального ультрафиолета (EUV), характерных для современных коммерческих EUV-литографов. Это существенно снижает энергопотребление и стоимость оборудования, делая технологию более доступной для массового производства. Однако существует и ряд компромиссов: скорость обработки пластин у таких систем, как Prinano, значительно ниже по сравнению с оптической литографией, и технологии пока что плохо подходят для производства сложных логических устройств с многообразием и сложностью шаблонов. Поэтому Prinano оптимально подходит для производства более простых и менее технологически сложных элементов, таких как флэш-память, тогда как создание CPU и GPU в настоящее время остается вне её возможностей.
Процесс формирования изображения на пластинах в системе Prinano основан на технологии наноимпринтинга, где жесткая кварцевая форма, выгравированная с помощью нанотехнологий, прижимается к тонкому слою резиста, нанесенному методом струйной печати. В ходе этого процесса систему оснащена динамический модуль измерения объема капель, что позволяет поддерживать точность высоты наносимых элементов и сохранять остаточный слой резиста менее десяти нанометров с очень высокой точностью, отклонения которой не превышают двух нанометров. Такой подход обеспечивает равномерность и высокое качество нанесения сложных схем. Машина PL-SR способна обрабатывать стандартные 300-миллиметровые пластины, что соответствует современным требованиям по размеру для массового производства полупроводниковых устройств.
В целом, внедрение системы Prinano PL-SR знаменует собой важный шаг вперёд для Китая в области производства наноимпринтных литографов. Этот результат демонстрирует возможность для отечественной промышленности не только использовать существующие технологии, но и развивать собственные решения, конкурирующие с ведущими мировыми производителями. В перспективе это может способствовать снижению зависимости от импортного оборудования и ускорению процессов освоения новых технологических узлов, что важно для повышения конкурентоспособности китайской электроники на мировом рынке. Кроме того, развитие таких систем способствует стимулированию инноваций и открывает новые горизонты для производства недорогих и эффективных решений в сфере нанотехнологий и микроэлектроники, что в итоге положительно скажется на глобальной технологической экосистеме.